Ytkemisk analys - Analys av metalloxidskikt med GD-OES
Prenumerera på standarder med tjänst SIS Abonnemang. Genom att prenumerera får du effektiv åtkomst till gällande standarder och säkerställer att ditt företag alltid har tillgång till senaste utgåvan.
Läs mer om SIS Abonnemang
This document describes a glow-discharge optical-emission spectrometric method for the determination of the thickness, mass per unit area and chemical composition of metal oxide films.
This method is applicable to oxide films 1 nm to 10 000 nm thick on metals. The metallic elements of the oxide can include one or more from Fe, Cr, Ni, Cu, Ti, Si, Mo, Zn, Mg, Mn, Zr and Al. Other elements that can be determined by the method are O, C, N, H, P and S.
Ytkemisk analys - Analys av metalloxidskikt med GD-OES
Prenumerera på standarder med tjänst SIS Abonnemang. Genom att prenumerera får du effektiv åtkomst till gällande standarder och säkerställer att ditt företag alltid har tillgång till senaste utgåvan.
Läs mer om SIS Abonnemang